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    这个也是杨杰为什么特意让现在七条线站专门留两天线站来专门用于生命科学和医药研究的原因。

    杨杰跟滕教授畅谈了一番，这才来到华兴集团公司旗下半导体材料的子公司的一间控制室。

    看到杨杰过来，这些技术人员都是激动地站起身来打招呼。

    “杨少……”

    “大家都不要这么拘谨，我就是过来了解一下你们的实验进度。”

    杨杰笑着说道。

    “杨少，也是多亏现在我们自己有了这么一套光源设施来进行实验，不然我们在光刻胶方面的研发进度耽搁的时间就太长了。”

    带领技术团队的黄明成博士感慨地说道，他加入华兴集团公司有九年了，一直都是负责光刻机的研发，这次自然也是承担了极紫外光光刻胶的研发任务。

    光刻技术随着集成电路集成度的提升而不断发展，为了满足集成电路对密度和集成度水平的更高要求，半导体用光刻胶通过不断缩短曝光波长以提高极限分辨率，世界芯片工艺水平目前已跨入微纳米级别，光刻胶的波长由紫外宽谱逐步提升到了g线、i线、氟化氪、氟化氩、f2，国外现在能够做到的f2光源波长在157纳米，同时业发展出了相应的光刻胶。

    半导体材料公司光刻胶技术部门也是从i线光刻胶开始的，通过霓虹国设置在吕宋国的光刻胶工厂得到了工艺资料后杨杰也是找到了黄明超等在做光刻胶的技术人员摸索出了i线光刻胶的配方，之后开始自主研发氟化氪、氟化氩光源的光刻胶。

    不过杨杰并没有让f2光源的光刻胶，而是直接让他们研发极紫外光的光刻胶。

    通过数年的研发，黄明超等技术团队此时已经研发出了极紫外光的光刻胶，可是因为没有合适的光源来做实验验证，去鹰酱的国家实验室去做实验的话等的时间太长了。

    这次神光光源设施试运行，技术团队也是向总部第一个递交了申请，杨杰也是同意了下来。
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